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拓荆科技2023年净利预增超60% 董事长提议回购股份

2024年02月01日 来源:证券日报

1月31日,拓荆科技披露《关于推动公司“提质增效重回报”及提议回购股份的公告》显示,拓荆科技拟通过良好的业绩表现、规范的公司治理、积极的投资者回报,切实履行上市公司的责任和义务,回馈投资者的信任,维护公司股价的长期稳定。与此同时,公司董事长吕光泉提议以集中竞价交易方式回购股份。

积极回报投资者

公告显示,拓荆科技此次提出了包含“专注公司经营提升核心竞争力、坚定落实股东回报计划、回购公司股份、加强与投资者沟通及后续事宜的五项具体举措”。公司称,推出相关举措,旨在践行“以投资者为本”的上市公司发展理念,维护全体股东利益,基于对公司未来发展前景的信心及价值的认可,公司将采取措施,切实“提质增效重回报”,树立公司良好的市场形象。

公告中,拓荆科技还披露了董事长吕光泉提出的回购提议。吕光泉提议以不低于1.2亿元(含),不超过1.973亿元(含)的总金额,通过上海证券交易所股票交易系统以集中竞价交易方式回购公司已发行的部分人民币普通股,回购股份拟用于股权激励、员工持股计划或予以注销、减少注册资本。

1月31日,记者以投资者身份致电拓荆科技,公司相关工作人员在电话中表示,有关回购的方案,还需要通过公司董事会的审议。

科技部国家科技专家库专家周迪认为,拓荆科技披露的相关公告及推出的一系列举措,体现了公司对提升经营效益、回报股东和增强核心竞争力的坚定决心。公告中的具体举措,有助于提升公司在国内半导体高端设备市场的竞争力,增强投资者信心,促进公司长期稳定发展。相关回购计划,有利于增强公司每股收益、市盈率等财务指标,从而提升公司价值,维护股价稳定,切实回报股东。

2023年业绩大幅预增

拓荆科技是一家高端半导体专用设备企业,于2022年4月份在上交所科创板挂牌上市。一直以来,拓荆科技重点聚焦薄膜沉积设备的研发和产业化应用,目前已形成PECVD(等离子体增强化学气相沉积)、ALD(原子层沉积)、SACVD(次常压化学气相沉积)、HDPCVD(高密度等离子体化学气相沉积)等薄膜设备产品系列,并推出了应用于晶圆级三维集成领域的混合键合设备产品系列。

公开披露数据显示,上市首年,拓荆科技2022年即实现营业收入17.06亿元,同比增长125.02%;实现归母净利润3.69亿元,同比大增438.09%。此外,据拓荆科技前期披露的业绩预告,经初步测算,公司预计2023年度实现营业收入26亿元至28亿元,同比增长52.44%至64.17%;预计2023年度实现归母净利润6亿元至7.2亿元,同比增长62.84%至95.40%,继续保持高增长态势。

对于业绩变动,拓荆科技在公告中解释称,一方面受益于公司持续高强度的研发投入,突破核心技术,在推进产业化和迭代升级各产品系列的过程中取得了重要成果。公司在新工艺应用及新产品开发方面取得显著成效,新客户拓展卓有成效;一方面公司持续加大研发投入,产业化应用领域不断扩大,经营规模快速增长,规模效应逐步显现。

国内咨询机构科方得Co-Found智库研究负责人张新原认为,拓荆科技近年业绩的快速增长,首先利益于我国半导体产业政策的推动,为拓荆科技等国内半导体企业提供了良好的市场环境;其次,全球半导体市场需求的持续增长,为公司产品提供了广泛的应用场景;最后,拓荆科技自身在技术研发、产品质量和市场服务方面的优势,使其在竞争中脱颖而出。

张新原表示,随着全球半导体产业向中国大陆地区的转移加速,以及我国政府对半导体产业的支持力度加大,拓荆科技有望继续受益于这一发展趋势。此外,公司持续加大技术研发投入,提升产品性能和品质,进一步拓展国内外市场,未来也有望实现更好的发展。

责任编辑:郑伊丹
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